製品概要
高純度水素、水素標準ガスは、極めて低レベルの不純物を特徴とする重要な工業用ガスであり、特に他のガスによる汚染により性能や安全性が損なわれる用途向けに調整されています。主に水蒸気メタン改質または電気分解によって調達され、厳格な基準に合わせて精製される高純度水素は、エレクトロニクス製造、化学合成、および新興のクリーン エネルギー技術に不可欠です。高純度水素の信頼性の高い供給により、半導体製造から燃料電池の動作に至るまでのプロセスにおいて最適な効率と安全性が保証されます。
基本情報
| CAS番号 | 1333-74-0 |
| 国連番号 | UN1049 (水素、圧縮) または UN1966 (水素、冷却液体) |
| 分子式 | H₂ |
| 危険有害性の分類 | 2.1 (可燃性ガス) |
主要な属性とパラメータ
| 純度グレード | 99.99% (4.0)、99.999% (5.0)、99.9995% (5.5)、および超高感度用途向けに最大 99.9999% (6.0) 以上のグレードが用意されています。- |
| 主要な不純物仕様 (99.999% グレードの場合) |
酸素 (O₂): < 1 ppmv 水分 (H₂O): < 2 ppmv 総炭化水素 (THC): < 0.5 ppmv (CH₄ として) 窒素 (N₂): < 3 ppmv 一酸化炭素 (CO): < 0.1 ppmv 二酸化炭素 (CO₂): < 0.1 ppmv |
| 物理的状態 | 無色、無臭の引火性の高いガス。バルク配送用の極低温液体としても供給されます。 |
| 納品フォーム | -高圧シリンダー、チューブ トレーラー、または浄化機能を備えたオンサイト発電システム-。 |
特徴と利点
超低汚染-
微量の酸素、水分、または炭化水素が欠陥、酸化、または触媒中毒を引き起こす可能性があるプロセスに不可欠であり、高い収率と製品品質を保証します。
多彩な還元雰囲気
冶金および材料加工において効果的な還元環境を提供し、酸化を防止し、正確な熱処理を可能にします。
エネルギーとエレクトロニクスにとって重要
エレクトロニクス製造における基本的な原料と燃料電池のクリーン エネルギー キャリアの両方として機能し、技術の進歩と脱炭素化をサポートします。
一貫した信頼性の高い供給
保証された純度と安定したサプライチェーンは、半導体工場、化学工場、研究施設の継続的な稼働に不可欠です。
機能特性
水素標準ガスは主に還元剤、キャリアガス、または燃料として機能します。半導体製造では、アニール、エピタキシャル成長、および酸化を防ぐためのフォーミングガス(窒素と混合)として使用されます。高い熱伝導率と低密度により、大型発電機の効率的な冷却媒体になります。燃料電池では、電気化学的に酸素と結合して電気と水が生成されます。化学プロセスでは、水素化、水素化分解、脱硫反応に関与します。生成時点から使用時点まで純度を維持するために、特殊な保管、取り扱い、精製技術が採用されています。
主な応用分野
半導体とエレクトロニクス
還元雰囲気、エピタキシーのためのウェーハ製造で、また化学蒸着 (CVD) およびエッチング プロセスのキャリア ガスとして使用されます。
化学および石油化学産業
水素化分解、水素化脱硫、アンモニア、メタノール、その他のバルク化学物質の製造における主要な反応物質。
冶金と熱処理
金属の焼きなまし、焼結、ろう付けのための保護雰囲気を提供し、酸化や脱炭を防ぎます。
燃料電池とクリーンエネルギー
定置型電力、輸送機器、ポータブル機器の固体高分子交換膜 (PEM) 燃料電池用の純粋な燃料。
分析および実験室での応用
ガスクロマトグラフィー (GC) 用のキャリアガスおよび水素炎イオン化検出器 (FID) 用の燃料。
フロートガラス製造
ガラス製造プロセスにおける錫浴の酸化を防ぐために還元性雰囲気を作り出します。
お客様とのコラボレーション事例
5G デバイス用の先進的な半導体チップを製造する大手メーカーは、重要なアニーリング ステップ中に持続的な酸化層の不一致に遭遇し、トランジスタの性能と歩留まりに影響を及ぼしました。彼らは、プロセスガス中の微量酸素が原因であると疑っていました。当社は、99.9999% の高純度水素の専用供給装置を導入するために提携し、ツール入口での酸素レベルが 10 ppb 未満であることを保証するポイントオブユース浄化装置と統合されました。--さらに、リアルタイムの水分と酸素のモニタリング システムも実装しました。-当社の高純度水素によって作成された超乾燥した無酸素環境により、酸化の問題が解消され、影響を受けるプロセス層のウェーハ歩留まりが 30% 向上し、デバイスの信頼性が向上しました。-このコラボレーションは、重大な生産ボトルネックを解決しただけでなく、工場内のガス純度の新しい基準を確立し、水素標準ガスがいかに最先端の半導体製造を直接可能にするかを実証しました。-
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